(1)采取逐段堿蝕。如將制件的1／2、1／3甚至1／4或更少可以進入堿蝕槽的，則可采取滾動堿蝕的方法進行，滾動速度不宜過慢，以防堿蝕不均勻，但將要結束時，應加快轉動速度，避免堿蝕件中出現流痕。

(2)臨時搭個池。對于表面積超過堿蝕槽的制件，堿蝕時可在地上用木條或磚塊圍成一個框，其面積可略大于制件，然后在框內襯上兩層塑料布，成一水池形，再注入已加過溫的堿蝕液后，即可在此池內進行堿蝕處理，如果堿蝕后尚需化學轉化處理的，則還要搭一個清水池和出光池，以避免因清洗、出光不到位而遭到氧化。對于陽極氧化件則無此嚴格要求，因為堿蝕后再形成的氧化膜不會影響陽極氧化工藝的正常進行，也不會影響氧化膜質量。

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