電鍍液雜質是影響鍍層質量的污嘖，如果不及時清除，不僅影響產品的外觀和性能，還會降低電鍍廠的生產效率。

我們大家都知道，電鍍液使用時間久了，經常由于工件的帶進帶出和添加劑的分解，日積月累電鍍液的雜質就會越來越多，其中包含有機雜質和無機（金屬）雜質兩大類，如何簡單有效去除這些雜質呢？[敏感詞]為大家介紹兩種方法。

一、去除有機雜質：采用活性炭處理電鍍液

活性炭是表面積很大且吸附能力很強的人造微小粉末，電鍍專用的活性炭吸附效果非常好，它能吸附有機雜質，使鍍層結晶均勻細致，減少鍍層脆性并防止底層產生花斑。

1、活性碳粉直接加入電鍍液中，這種方法比較麻煩，但是效果[敏感詞]的，一般常用量為2～5g/L，首先要將活性炭用純水調成糊狀，加入鍍槽后充分攪拌，[敏感詞]是采用循環過濾和壓縮空氣強力攪拌，吸附過程大約2～4小時，然后靜止，使之慢慢沉淀。大約6～8小時后，開始用過濾芯過濾，直至鍍液中無殘留炭粉，鍍液呈無炭的本體黑色為止。有時會用雙氧水加活性炭綜合大處理雜質，處理后需要確保鍍液雙氧水全部揮發無殘留。

2、采用活性炭濾芯連續循環過濾，只是要注意當活性炭濾芯吸附飽和時（一般4個小時），應及時更換活性炭濾芯，防止發生脫附而使雜質重新污染鍍液。現在有比較高端的活性炭濾芯，我們做過實驗，其過濾效果與粉末活性炭相差無幾，非常方便，但費用比較昂貴。

二、去除無機（金屬）雜質：采用電解處理電鍍液

此方法是在陰極上掛上波浪形的電解板（增大電解面積，提高效率），使金屬雜質在陰極電解板上沉積、夾附或者還原。當然，滾鍍的話也可以直接用滾筒裝載廢料進行電解。（注：氰化鍍銅、氰化鍍銀和鍍金溶液一般不做弱電解處理，因為氰化物能使一些金屬離子的析出電位變負，不容易電解析出。這樣不僅不能去除重金屬雜質，反而浪費成本）

電解過程都要攪拌（使雜質和電極表面能充分接觸），一般都需在一定的溫度和PH值下進行（效率更高），至于電流密度的大小，取決于雜質的分布區域反應，雜質在高區則用強電解，在低區則用弱點解，交互使用。

電解之前陰極板一定要刷洗干凈，陰極上疏松的沉積物要清除，或者干脆更換新的陰極板電解。

電解的[敏感詞]方式是在電鍍槽旁放一個可以與母槽來回循環的小輔助槽，用于持續不間斷的電解去除雜質，這樣既保持了鍍液的干凈，又不會影響生產。

當然除了以上的兩種處理雜質的方法，還有如下其他一些方法

1、沉淀處理：加入某些化學藥劑使雜質形成沉淀，然后過濾分離。

2、離子交換處理：利用離子交換樹脂去除特定的離子雜質。

3、 電滲析處理：用于分離帶電的雜質離子。

4、調整溶液參數處理：例如調整 pH 值、溫度等，促使某些雜質轉化或沉淀。

5、定期凈化處理：包括倒槽清理、更換部分溶液等。

6、添加除雜劑處理：專門的凈化除雜劑可以與雜質反應并使其便于去除。

值得注意的是電鍍液經過處理雜質后，需要調整各種電鍍工藝參數來確保電鍍生產的正常進行。

以上便是去除電鍍液雜質的方法，我們可以通過采用活性炭處理電鍍液去除有機雜質和采用電解處理電鍍液去除無機（金屬）雜質以及沉淀處理法等其他的方法，提高電鍍液清潔度，為高質量鍍層做準備。



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